原理实际上跟照相机差不多,不过它的底片是涂满光敏胶(也叫光刻胶)的硅片。
各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上,光刻胶的曝光部分与硅片进行反应,
将其永久的刻在硅片上,这是芯片生产的最关键步骤
光刻机中国能制造,但是精度不如国外。
上海微电子装备有限公司能够制造投影式光刻机。在LED、IC后道和平板显示的微米级光刻机都有不少销量。
IC前道光刻机分辨力要求较高,目前只能制造百纳米或几十纳米级别光刻机。
光刻机我国有,只是精度不是业界最顶级的。需要搞清楚这个概念差别。
所谓光刻机的关键就是精密的控制,包括镜头、光线(光源),试想相关差异已经到了几nm的尺度啦,任何普通人觉得的微小的差异在这个尺度上其实都已经是巨大的差异啦。
光刻机是种通过激光刻蚀晶体来制作芯片的机器
我国也有光刻机,不过精度没有老外的高,所以无法实现较为先进的工艺