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资料描述
摘要 针对早期研制的激光直写装置存在的刻写速度慢、功能不够完善的缺点，重新设计并搭建了一套小型激光
直写光刻系统。该系统采用波长４０５ｎｍ可高速模拟调制的单横模半导体激光器作为刻写光源，结构更为简单紧
凑；采用正弦振荡模式控制纳米平台运动，大幅度提高了刻写速度；增加了刻写光源功率校正功能、基于互补金属
氧化物半导体（ＣＭＯＳ）相机的样品观察功能、蓝光共聚焦成像功能以及刻录光源功率衰减以实现一般光刻胶刻写
的功能。通过记忆调焦数据，刻写蓝光、辅助聚焦红光以及样品观察绿光三束光分时工作，互不干扰。实验表明，
该光刻系统可在光敏薄膜材料上进行打点、刻画矢量和标量图形等多种操作，刻写范围２００μｍ×２００μｍ，最少用
时１００ｓ，刻写分辨率在２５０ｎｍ以内。
关键词 激光技术；激光直写；光刻；ＬａｂＶＩＥＷ；自动聚焦
中图分类号 ＴＮ３０５ 文献标识码 Ａ ｄｏｉ：１０．３７８８／ＣＪＬ２０１４４１．１０１６００３
电子学控制
系统分为上位机和下位机两部分，其中上位机
是标准的ＰＣ机，采用ＬａｂＶＩＥＷ 软件进行人机界
面的设计以及数据收发、处理、显示和存储，下位机
基于现场可编程门阵列（ＦＰＧＡ）芯片开发，通过
ＵＳＢ与上位机通讯，接收数据并控制各个独立元件
（包括ＬＤ４０５、ＬＤ５３２、ＰＺＴＺ、ＰＩＮ、四象限探测器和
工件台）的工作并反馈数据给上位机。
